CRF真空等離子體清洗機通入不同的氣體都有什么用途:
       在使用CRF在真空等離子體清洗機改性物體之前，首先對物體和污垢進行分析和清洗，然后選擇氣體。根據等離子體的作用原理，可選氣體可分為兩類。一種是氫、氧等反應性氣體，主要用于清潔金屬表面的氧化物并恢復反應。真空等離子體清洗機主要用于清洗物體表面的有機物并發生氧化反應。另一種是真空等離子體清洗機通過氬、氦、氮等非反應性氣體。氮等離子體處理可以提高數據的硬度和耐磨性。

一，CRF真空等離子體清洗機清洗金屬外觀
       金屬表面常有油脂、油污等有機物和氧化層，濺射、油漆、粘結、粘結、焊接、銅焊和PVD，CVD涂層前，需要真空等離子體處理，以獲得完全清潔和無氧化層的外觀。在這種情況下，等離子體處理具有以下功能：
氧化物去除金屬氧化物與處理氣體發生化學反應。這種處理應該是氫或氫和氬的混合物。有時還有兩個步驟。首先，氧化第二步是用氫和氬的混合物去除氧化層。幾種氣體也可以一起處理。
二，CRF真空等離子體清洗機等離子體刻蝕
       在真空等離子體蝕刻過程中，蝕刻物通過處理氣體變成氣相。真空泵提取處理氣體和基質，外觀覆蓋新鮮處理氣體。蝕刻部分不被數據覆蓋。
       真空等離子體清洗機也用于蝕刻塑料外觀，可通過氧氣灰化填充混合物，共同分布和分析情況。真空等離子體蝕刻作為塑料印刷和粘合的預處理技術非常重要，如POM，PPS和PTFE。等離子體處理可大大增加粘結潤濕面積。