等離子體是氣體分子在真空、放電等特殊場(chǎng)合下產(chǎn)生的獨(dú)特現(xiàn)象和物質(zhì)。典型的等離子的組成是，電子、離子、自由基和質(zhì)子。就好象把固體轉(zhuǎn)變成氣體需要能量一樣，產(chǎn)生離子體也需要能量。一定量的離子體是由帶電粒子和中性粒子（包括原子、離子和自由粒子）混合組成。
      離子體能夠?qū)щ姡碗姶帕ζ鸱磻?yīng)。等離子清洗/刻蝕機(jī)產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電場(chǎng)，用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體愈來(lái)愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離也愈來(lái)愈長(zhǎng)，受電場(chǎng)作用，它們發(fā)生碰撞而形成等離子體，這時(shí)會(huì)發(fā)出輝光，故稱為輝光放電處理。
       等離子體的產(chǎn)生機(jī)理包括電離反應(yīng)、帶電粒子的傳輸以及電磁運(yùn)動(dòng)學(xué)等理論。等離子體的產(chǎn)生與氣化過(guò)程伴隨著電子、粒子和中性粒子的碰撞反應(yīng)。等離子體中粒子的碰撞會(huì)產(chǎn)生活性組分。因?yàn)榈入x子體處理的目的是改性表面或在表面形成一層合成材料，因此在整個(gè)處理過(guò)程中，我們關(guān)注的是等離子體與材料的相互作用以及形成反應(yīng)產(chǎn)物。

       每個(gè)等離子體處理的工藝過(guò)程都會(huì)局限在一個(gè)多維參數(shù)的腔室中，這個(gè)腔室的大小決定了整個(gè)工藝的經(jīng)濟(jì)性、反應(yīng)質(zhì)量、反應(yīng)性能及其他參數(shù)，這些參數(shù)可以使處理過(guò)程具有競(jìng)爭(zhēng)性和工業(yè)應(yīng)用價(jià)值。腔室的操作受許多約束條件的限制，如處理過(guò)程受等離子體的種類及反應(yīng)速率的限制，處理效率受電能轉(zhuǎn)化為等離子體密度方式的限制，反應(yīng)產(chǎn)量受處理過(guò)程中某種原材料的消耗所制約等。
在等離子體輔助制造工業(yè)中。等離子體一般具有下列用途：
1.等離子體可以作為熱源。
2.等離子體可以作為化學(xué)催化劑
3.等離子體可以作為高能離子流和電子流源。
4.可以作為濺射粒子源。
       在很多工藝中，隨處可見等離子體的這幾種基本特性，這就逐漸形成了以等離子體為處理手段的基礎(chǔ)制造業(yè)。單獨(dú)的某種處理過(guò)程或幾種處理過(guò)程綜合作用可賦予等離子體不同的用途。例如，在等離子體中，利用等離子體的化學(xué)合成作用產(chǎn)生新的化學(xué)藥品，或利用粒子的聚合作用在表面沉積形成薄膜等。